HBO Microlithography Lamps for Nikon i-line Systems
Användningsområde
- Microlithography
Säkerhetsanvisningar
På grund av deras kraftiga ljusstyrka, UV-strålning och höga interna tryck (när de är heta) får HBO-lampor endast användas i slutna armaturer som är speciellt konstruerade för detta ändamål. Kvicksilver friges om lampan går sönder. Speciella säkerhetsåtgärder måste vidtas. Ytterligare information finns tillgänglig på begäran eller kan hittas i broschyren som följde med lampan eller i bruksanvisningen.
På grund av deras kraftiga ljusstyrka, UV-strålning och höga interna tryck (när de är heta) får HBO-lampor endast användas i slutna armaturer som är speciellt konstruerade för detta ändamål. Kvicksilver friges om lampan går sönder. Speciella säkerhetsåtgärder måste vidtas. Ytterligare information finns tillgänglig på begäran eller kan hittas i broschyren som följde med lampan eller i bruksanvisningen.
Mer information om produktfamiljen
HBO lamps > 200W are designed to meet the high demands of the Semiconductor industry. With peak intensity at 365nm these lamps are ideal for microlithography and are designed and qualified for specific equipment manufacturers.
Products
| Produktnamn |
|
|
|
|
Specifikationer | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
HBO 1000 W/NEL
|
750 | 47.0 | 84,5 | 187.0 | ||
|
|
HBO 1002 W/NEL
|
750 | 47.0 | 78,5 | 187.0 | ||
|
|
HBO 1002 W/NIL
|
27.1 | 190.0 | ||||
|
|
HBO 2001 W/NIL
|
1750 | 26.0 | 122.25 | 251.0 | ||
|
|
HBO 2000 W/NIL
|
1750 | 26.0 | 219.0 | |||
|
|
HBO 2001 W/NIEL
|
1750 | 26.0 | 112,0 | 251.0 | ||
|
|
HBO 2002 W/NIL
|
1750 | 26.0 | 107,75 | 232.0 | ||
|
|
HBO 2011 W/NIL
|
2011 | 25 | 107,75 | 256.0 | ||
|
|
HBO 2011 W/NILH
|
2011 | 24.0 | 107,75 | 234.0 | ||
|
|
HBO 2501 W/NIL
|
2500 | 23.0 | 357.0 | |||
|
|
HBO 2510 W/NIL
|
2500 | 23.0 | 157,75 | 357.0 | ||
|
HBO 3500 W/NIL
|
3500 | 27.0 | 180,0 | 382.0 |
